由中国真空学会主办、云南师范大学与北京大学承办的中国真空学会2016学术年会将于2016年8月12-14日在云南省昆明市举办。热切希望全体学会会员、理事及科研院所、企业同仁等踊跃投递论文。大会将设一个主会场和六个分会场，分会场有：真空科技与工程、表面科学与应用、薄膜科学与技术、纳米科学与技术、电子材料与器件、等离子体技术、显示技术。
学术交流将采取多种形式：大会特邀报告，分会邀请报告，分会口头报告，张贴报告，会间将评选“最佳张贴报告奖”。征文范围包括：真空科技与工程、表面科学与应用、薄膜科学与技术、纳米科学与技术、电子材料与器件、等离子体技术、显示技术。征文要求与会者踊跃投稿，只需提交论文摘要（中、英文均可），网站上有摘要模版供下载编辑。本次会议的摘要投稿请通过会议官方网站进行。
大会将出版论文摘要集，为统一摘要格式，请务必采用网站提供的摘要模板编辑。网上投稿时请务必填写报告人、所属的分会编号（大会邀请报告除外）、以及报告类型等信息。摘要是否被录用、以及报告的类型将在2016年7月份另行通知作者。对于口头报告，会议备有多媒体设备，请自备U盘。张贴报告请自行打印，尺寸：90cm× 120cm。截稿日期为2016年6月20日前。
摘要投稿过程中，如果遇到学术问题，请与所属分会的负责人联系。摘要投稿过程中，如果遇到技术问题，请与中国真空网负责人联系。
中国真空网：马雯卿 电话：021-62121126转814 会务组：中国真空学会办公室 地址：北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼612室 邮编：100022 电话：010-58208908/58208985 传真：58207735 QQ1：2317369989 QQ2：1563526075 E-mail：cvs@chinesevacuum.com zgzkxh@chinesevacuum.com 中国真空学会 2016年2月22日